对于芯片制造商来说，光刻机非常重要，ASML正在积极布局新技术据外媒报道，截至2022年第一季度，ASML已经发运了136套EUV系统

根据官方声明，新的EUV光刻机系统NXE:3600D的可用性将达到93%，这将使其更接近DUV光刻机。

资料显示，NXE:3600D系统以30mJ/cm的速度每小时可生产160片晶圆，比NXE:3400C高出18%二是正在研发的NXE:3800E系统，初期将以30mJ/cm的速度提供195wph以上的容量，吞吐升级后将达到220wph

据介绍，NXE:3600E将在像差，重叠和吞吐量方面进行渐进式光学改进，而在0.33 NA的EUV光刻机领域，ASML路线图包括在2025年左右推出吞吐量约为220wph的NXE:4000F。

对于0.55 NA的光刻机来说，需要更新的不仅仅是它的光刻机系统同时，还需要在光掩模，光刻胶层压和图案转移工艺等方面齐头并进，以使新设备的应用成为可能

根据ASML在第一季度财务会议上披露的数据，公司的目标是在2022年出货55台EUV系统，到2025年实现90台工具的计划ASML也承认，2025年90台可能会超过实际需求，但他们形容这是为了满足2030年1万亿美元半导体行业的需求而付出的巨大努力

按照之前的说法，ASML正在研发一款价值4亿美元的新型光刻机，双层巴士体积庞大，重量超过200吨原型机预计2023年上半年完成，2025年首次投入使用，2026年至2030年主要出货

这台机器应该参考高NA EXE:5200英特尔是世界上第一家下订单的公司所谓高NA就是高数值孔径，2nm以后的节点都得靠它

郑重声明：此文内容为本网站转载企业宣传资讯，目的在于传播更多信息，与本站立场无关。仅供读者参考，并请自行核实相关内容。